Технология: Selective Laser Melting (SLM)
Область применения: Научные исследования, образование, мелкосерийное производство.
Преимущества: Открытая исследовательская платформа, высокая точность, повышенная стабильность, экономическая эффективность.
Тип лазера: 500W × 1
Система сканирования: Высокоточный гальванометр
Система фокусировки: F-θ Линза
Качество луча: M² < 1,1
Диаметр луча: 40-80 мкм
Скорость сканирования: 7 м/с
Толщина слоя: 20-100 мкм
Предварительный нагрев: 20°C - 200°C
Потребляемая мощность: 7 кВт
Содержание кислорода: ≤ 100 ppm
Источник газа: Аргон/Азот (N₂)
Габариты оборудования (ШxГxВ): 1400мм × 800мм × 1800мм
Габариты установки (ШxГxВ): 3200мм × 2400мм × 2380мм
Вес оборудования: около 800 кг